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AH系列熱裂解源

AH系列熱裂解源是一款性價比較高的原子氫源,可通過高溫將高純氫氣裂解為活性高的氫原子,通常用于襯底清洗、去除氧化物、促進原子遷移及氮化鎵生長速率調(diào)整等。氣體傳輸導(dǎo)管中的加熱絲為耐高溫的鎢絲材質(zhì),可加熱至1800-2200℃。AH系列熱裂解源額外配備水冷法蘭,可顯著降低熱輻射,減少材料高溫放氣。特殊設(shè)計的擴散板結(jié)構(gòu)可控制原子氫分布狀態(tài),提高束流均勻性。此外,原子氫熱裂解源僅可產(chǎn)生氫原子及氫分子,可有效避免襯底損傷。


產(chǎn)品特點
低成本,性能高;低溫原位襯底清洗●  改善材料二維生長;提供原子級平整表面


技術(shù)參數(shù)

熱裂解源型號所有研發(fā)及生產(chǎn)型MBE系統(tǒng)
適用氣體源H2
最小安裝法蘭尺寸CF35
總長度 (mm)494
真空內(nèi)長度 (mm)343
真空內(nèi)外徑 (mm)151
加熱方式輻射加熱,自支撐鎢絲
進氣口1/4 VCR
常用工作溫度1800-2200℃
最高除氣溫度2500℃
冷卻標準水冷法蘭

烘烤溫度
250℃
訂購編碼3100160001


測試數(shù)據(jù)

資源 18@4x.png

標簽: 超高真空MBE
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