PS大面積等離子體源，適配多種氣體，適合用于大面積基片的刻蝕、表面清理、表面活化、表面改性、輔助沉積等。
| 型號(hào) | PS100 | PS200 |
| 安裝法蘭 | CF200 | CF250 |
| 工作氣壓 | 10-4– 10-1 mbar | 10-4– 10-1 mbar |
| 最大功率 | 1000W | 3000W |
| 等離子體密度 | 1017 m-3 | 1017 m-3 |
| 處理樣品尺寸 | ≤4inch | ≤8inch |
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