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EN 021-6525 3206

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二維材料原位剝離堆垛裝置CLST-2

該系統(tǒng)由快速進(jìn)樣腔、解理腔、低溫樣品架、解理樣品架及光學(xué)顯微鏡組成。

提供豐富的停放工位和100K-470K的變溫范圍,實(shí)現(xiàn)對(duì)薄層材料的解理和轉(zhuǎn)移。


技術(shù)規(guī)格
 ● 可實(shí)現(xiàn)超高真空環(huán)境解理,真空度優(yōu)于5x10-10mbar配備液氮制冷,最低溫小于120K操作便捷,借助機(jī)械手可實(shí)現(xiàn)二維材料解理與轉(zhuǎn)移
 ● 解理面原子層級(jí)的平整度,解理得到少層材料標(biāo)準(zhǔn)的Flag-type樣品托,兼容性好,可以無縫互聯(lián)ARPES,STMXPS等表面分析設(shè)備


光學(xué)顯微鏡
 進(jìn)口光學(xué)鏡頭進(jìn)口CCD相機(jī)電動(dòng)變焦同軸光照明
機(jī)械手
便捷傳樣與解理
解理腔
超高真空腔體55316不銹鋼材質(zhì)符合超高真空標(biāo)準(zhǔn)的法蘭口

高強(qiáng)座鋁合金支架,大滾輪,便于移動(dòng)

加熱處理與溫度控制
解理樣品架

電動(dòng)升降

X、Y、Z、R多軸壓電位移臺(tái)


低溫樣品架
 手動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)溫度范圍:100K-300K同時(shí)停放至多42個(gè)樣品托


標(biāo)簽: 超高真空MBE
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