該系統(tǒng)由快速進(jìn)樣腔、解理腔、低溫樣品架、解理樣品架及光學(xué)顯微鏡組成。
提供豐富的停放工位和100K-470K的變溫范圍,實(shí)現(xiàn)對(duì)薄層材料的解理和轉(zhuǎn)移。
● 可實(shí)現(xiàn)超高真空環(huán)境解理,真空度優(yōu)于5x10-10mbar | ● 配備液氮制冷,最低溫小于120K | ● 操作便捷,借助機(jī)械手可實(shí)現(xiàn)二維材料解理與轉(zhuǎn)移 |
● 解理面原子層級(jí)的平整度,解理得到少層材料 | ● 標(biāo)準(zhǔn)的Flag-type樣品托,兼容性好,可以無縫互聯(lián)ARPES,STM,XPS等表面分析設(shè)備 |
光學(xué)顯微鏡 | |||
進(jìn)口光學(xué)鏡頭 | 進(jìn)口CCD相機(jī) | 電動(dòng)變焦 | 同軸光照明 |
機(jī)械手 | |||
便捷傳樣與解理 | |||
解理腔 | |||
超高真空腔體55316不銹鋼材質(zhì) | 符合超高真空標(biāo)準(zhǔn)的法蘭口 | 高強(qiáng)座鋁合金支架,大滾輪,便于移動(dòng) | 加熱處理與溫度控制 |
解理樣品架 | 電動(dòng)升降 | X、Y、Z、R多軸壓電位移臺(tái) | |
低溫樣品架 | |||
手動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn) | 溫度范圍:100K-300K | 同時(shí)停放至多42個(gè)樣品托 |
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