復(fù)雜超高真空系統(tǒng)用遠(yuǎn)程等離子清洗源技術(shù)

費(fèi)勉儀器（FERMI INSTRUMENTS）目前已成功開(kāi)發(fā)出針對(duì)復(fù)雜真空系統(tǒng)碳污染原位清除的新一代遠(yuǎn)程等離子清洗源。

低壓氣體受外界能量激發(fā)產(chǎn)生等離子體，包括電子、離子、中性原子或基團(tuán)等不同成分，依靠活性粒子的“活化作用”與物體表面進(jìn)行物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)雙重作用，將所需去除物質(zhì)變?yōu)閾]發(fā)性物質(zhì)，即可經(jīng)由抽真空去除。較之常規(guī)化學(xué)清洗，等離子表面處理不需要區(qū)分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，除去一些電敏感性設(shè)備，可用于金屬、有機(jī)物等多種材料，不產(chǎn)生有害污染，綜合成本低，此外還可以改善材料表面附著性能，因而廣泛應(yīng)用于等離子清洗、表面處理等領(lǐng)域。

目前，費(fèi)勉儀器已開(kāi)發(fā)出新一代遠(yuǎn)程等離子清洗源，則取消了腔體內(nèi)部電極設(shè)計(jì)，更加安全方便。系統(tǒng)適用于超高真空工作環(huán)境，工作過(guò)程不需要拆除其他真空部件，并且無(wú)需拆除清洗源即可進(jìn)行后續(xù)烘烤，使得真空系統(tǒng)可以更加長(zhǎng)久地保持良好的真空度。 

▲復(fù)雜超高真空系統(tǒng)等離子清洗

新一代等離子清洗源工作氣壓從E-3 mbar到1 mbar，工作氣體選擇廣泛，以匹配去除不同類(lèi)型的污染物?？筛鶕?jù)實(shí)際需求將等離子體中離子與活化分子分離，避免離子轟擊對(duì)表面產(chǎn)生傷害或者加熱樣品，僅通過(guò)活化成分，如氧原子、活性氧分子等與有機(jī)物進(jìn)行反應(yīng)，去除表面污染。

▲小巧等離子清洗腔

實(shí)踐過(guò)程中，根據(jù)實(shí)際腔體或者部件、硅片等不同需求，對(duì)離子源功率以及氣壓進(jìn)行調(diào)節(jié)，可以迅速得到完全潔凈和無(wú)氧化層的表面，即使是邊遠(yuǎn)角落也可以有效清除，從而維護(hù)真空環(huán)境的潔凈。

▲等離子清洗機(jī)

▲等離子清洗機(jī)清洗中

費(fèi)勉儀器（FERMI INSTRUMENTS）長(zhǎng)期致力于為全球科研機(jī)構(gòu)、國(guó)家重大儀器項(xiàng)目和高端工業(yè)需求提供精密儀器裝置、核心技術(shù)、整體解決方案，此次開(kāi)發(fā)的等離子清洗系統(tǒng)可用于復(fù)雜真空互聯(lián)系統(tǒng)，避免開(kāi)腔產(chǎn)生二次污染，工藝過(guò)程易控制，清洗精度高，能夠有效去除油脂、油污等有機(jī)物及氧化層以及沉積殘余，營(yíng)造良好的實(shí)驗(yàn)環(huán)境，熱忱歡迎廣大客戶前來(lái)接洽。