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高溫高壓原位反應(yīng)池 HPGC-300

HPGC型高溫高壓氣體反應(yīng)池是一種氣氛條件下的樣品原位加熱裝置,可以對(duì)接各種需要原位制備功能的分析系統(tǒng)。反應(yīng)池的最高加熱溫度為1200 K,內(nèi)部氣氛最高耐受壓力為10 bar,具有體積小、承壓強(qiáng)、操作方便及適用氣體范圍廣等特點(diǎn)。

該裝置主要由反應(yīng)室、傳樣系統(tǒng)和混氣系統(tǒng)等幾部分構(gòu)成。反應(yīng)室外壁采用不銹鋼材料,承壓能力強(qiáng);內(nèi)套為厚壁石英管,利用石英材料的穩(wěn)定性保證反應(yīng)室內(nèi)氣體不和石英反應(yīng),保護(hù)腔體本身不被破壞,增加了可用氣體的種類(lèi),提高了實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可靠性;整個(gè)反應(yīng)室的封閉體積很小,約為100 ml,極大的增強(qiáng)了設(shè)備安全性。加熱部分采用加熱絲和熱電偶(K型)配合裝置,可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控溫加熱功能,且加熱絲在真空條件下工作,可延長(zhǎng)其使用壽命;此外,良好的隔熱系統(tǒng)設(shè)計(jì)顯著降低了密封部位的溫度,因此密封部分采用可重復(fù)使用的高氟橡膠圈替代傳統(tǒng)的銅墊圈,極大的降低了成本。另外,利用水冷套循環(huán)裝置對(duì)反應(yīng)室外壁進(jìn)行冷卻,可以有效降低反應(yīng)室表面溫度,增強(qiáng)不銹鋼外壁的承壓能力,保護(hù)操作人員人身安全。

技術(shù)規(guī)格
配置HPGC-300
反應(yīng)室加熱類(lèi)型輻射加熱,陶瓷片支撐的耐腐蝕加熱絲
熱偶類(lèi)型K型
工作溫度300-1200 K
最高加熱功率150 W
溫度穩(wěn)定性≤0.1℃,取決于PID溫控器
水冷內(nèi)部水冷
腔室容積100ml
最大反應(yīng)氣壓10 bar
適用氣體種類(lèi)Ar、N2、O2etc
不適用氣體種類(lèi)F2、Cl2、 Br2等鹵素
真空前級(jí)泵,本底5E-2mbar / 分子泵組,本底5E-6mbar選配
傳樣左側(cè)/右側(cè)選配
傳樣距離120mm
轉(zhuǎn)接法蘭CF40/CF63/CF100選配
混氣室最大工作壓力10Bar
氣路數(shù)量包含四路混合氣路,一路吹掃氣路
腔室材料SS316
腔室容積270ml
可移動(dòng)裝置滾輪支架
出氣連接1.5m 高壓軟管,1/4"不銹鋼直管接口
過(guò)壓保護(hù)10Bar
尾氣處理面板尾氣控壓1~16Bar
模擬量質(zhì)量流量計(jì)/數(shù)字質(zhì)量流量計(jì)/無(wú)選配
升溫曲線

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實(shí)物圖

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標(biāo)簽: 超高真空MBE
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