費勉儀器可提供傳統(tǒng)管式爐CVD設備和等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備。由于等離子體的存在，PECVD中發(fā)生薄膜沉積的溫度會遠遠低于傳統(tǒng)CVD中的薄膜沉積溫度。
| ● 爐膛尺寸：60/80/100/120×400mm （直徑×加熱區(qū)） | ● 使用溫度：最高溫度 1200℃，連續(xù)工作溫度 ≤1100℃ | ● 真空度：<1E-3mbar（機械泵） |
| ● 溫控系統(tǒng)：有PID調(diào)節(jié)、自整定功能 | ● 控溫精度：±1℃ | ● 升溫速度：推薦 ≤10℃/min ，最快升溫速度 15℃/min |
| ● 控溫模式：功率5-500W頻率13.56MHz自動匹配 | ● 互聯(lián)情況：可與多種薄膜制備、表征量測設備互聯(lián) |
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