中科院蘇州納米所超高真空PECVD系統(tǒng)交付使用

2020年5月，由費勉儀器設計并搭建完成的超高真空PECVD系統(tǒng)在蘇州納米所完成安裝，并移交用戶使用。

傳統(tǒng)的CVD系統(tǒng)在材料生長領域已取得了很好的成果，特別是石墨烯等二維材料的生長，CVD有著其他手段無法比擬的優(yōu)勢。傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)通常基于管式爐設計，充分利用了管式爐耐腐蝕、易清潔、恒溫區(qū)長和控溫簡便的優(yōu)勢，但是常規(guī)CVD系統(tǒng)都屬于單體設備，生長完成的材料需要經(jīng)過空氣傳遞才能實現(xiàn)進一步的材料改性或者表征，過程中會引入很多不確定因素，空氣中的氧化和污染直接對材料的本征性質(zhì)造成了干擾。

這套由費勉儀器完成的超高真空系統(tǒng)，將CVD和超高真空系統(tǒng)無縫對接，既能在石英管式爐內(nèi)完成CVD乃至PECVD生長，又能直接將產(chǎn)成的晶體樣品送入STM等分析裝置進行測量，大幅提升樣品品質(zhì)，有效地提高了科研能力。