中科院蘇州納米所超高真空PECVD系統(tǒng)交付使用

2020年5月，由費(fèi)勉儀器設(shè)計(jì)并搭建完成的超高真空PECVD系統(tǒng)在蘇州納米所完成安裝，并移交用戶(hù)使用。

傳統(tǒng)的CVD系統(tǒng)在材料生長(zhǎng)領(lǐng)域已取得了很好的成果，特別是石墨烯等二維材料的生長(zhǎng)，CVD有著其他手段無(wú)法比擬的優(yōu)勢(shì)。傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)通?；诠苁綘t設(shè)計(jì)，充分利用了管式爐耐腐蝕、易清潔、恒溫區(qū)長(zhǎng)和控溫簡(jiǎn)便的優(yōu)勢(shì)，但是常規(guī)CVD系統(tǒng)都屬于單體設(shè)備，生長(zhǎng)完成的材料需要經(jīng)過(guò)空氣傳遞才能實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步的材料改性或者表征，過(guò)程中會(huì)引入很多不確定因素，空氣中的氧化和污染直接對(duì)材料的本征性質(zhì)造成了干擾。

這套由費(fèi)勉儀器完成的超高真空系統(tǒng)，將CVD和超高真空系統(tǒng)無(wú)縫對(duì)接，既能在石英管式爐內(nèi)完成CVD乃至PECVD生長(zhǎng)，又能直接將產(chǎn)成的晶體樣品送入STM等分析裝置進(jìn)行測(cè)量，大幅提升樣品品質(zhì)，有效地提高了科研能力。